现在当今世界，5nm芯片生产工艺可以说是最尖端的科技，国内现在最先进的中芯国际公司也才刚刚突破N+1生产工艺，能够实现大概7纳米生产工艺水平。近日中科院表示张子旸团队光刻方面取得研究进展，在5nm光刻工艺上研发出来一种新型的5nm芯片的加工方法。当前在5nm芯片加工生产中，主流生产技术是光刻技术和极紫光光刻技术两种，而张子旸团队的5nm工艺则是在无掩模光刻技术上的一项研究。传统中的无掩模光刻技术的成本非常低，但是激光的精度却难以掌控，这也是这项技术难以量产应用的原因。

张子旸团队本次研究的就是无掩膜光刻技术，通过双激光束交叠技术达到了5纳米的光刻精度，能够实现5纳米芯片的生产。这样的技术不仅让无掩模光刻机光刻精度大大提升，达到了生产5nm芯片的要求，而且生产效率也有所提高。据中国微米纳米技术学会报道，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在其发表的论文讲述了该团队开发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。